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平面抛光机运动学理论
2014-07-09 13:28:06 来源：
目前市场上针对小工件进行平面抛光的机器很多，并且正在逐步增加。但是大型平板的抛光机还停留在起始阶段。 建立平面抛光机的运动学模型，从抛光轨迹、抛光速度方面研究抛光的运动特性及其对抛光均匀性的影响，得出了组合抛光的参数匹配关系。
对抛光的速度特性研究表明:在不同时刻的抛光盘上各点的速度是变化的，单周期内速度曲线呈包络线变化，包络线形状与平面抛光机横梁摆动速度曲线有关;抛光时，越靠近抛光盘边缘的点速度越大，抛光能力越强。
对抛光的运动特性研究表明:抛光盘的运动具有周期性，抛光轨迹为类正弦，整个平面内磨削均匀区域呈带状分布，平面中间区域出现明显的磨削量峰值，沿中线到平面两侧边线磨削量递减，并可能在两侧位置形成暗带。
以Preston方程为基础，引入了抛光均匀性的数学评价参数，建立了平面抛光机抛光均匀性分析的计算机仿真模型，确定了仿真参数，并对单抛光盘和双抛光盘组合抛光两种情况下抛光量的分布进行了仿真，仿真结果表明该模型能够较好的分析抛光平面抛光量的分布情况与抛光的均匀程度。基于Preston方程，得出了影响抛光质量的关键因素。研究表明:抛光均匀性主要受抛光盘运动轨迹影响，抛光面相对速度对抛光量分布的影响不大。
以墙地砖抛光为研究对象，结合仿真与试验研究了抛光工艺参数对抛光均匀性以及抛光质量的影响，为抛光参数优化提供了有效方法。研究表明:抛光质量取决于前道工序的抛光质量和本道工序抛光的均匀性;抛光压力增加抛光效率和抛光质量均会增加，但当其增加到一定值时会加重抛光划痕甚至会将墙地砖压至破碎，抛光质量下降;抛光盘转速主要影响抛光效率，在充分抛光的条件下对抛光的均匀性影响不大;墙地砖的输送速度、横梁摆动周期以及抛光间距的合理匹配影响整个平面的抛光均匀性，横梁的摆动速度曲线对于改善加工面两侧的抛光质量有决定性作用，通过比较分析采用延时梯形速度曲线抛光效果*好。
抛光运动的特性和抛光参数对工件表面质量影响很大，这些参数直接影响着抛光轨迹和运动的均匀性，所以通过刚刚的计算和实验，精确的掌握了这些抛光参数是研究平面抛光机的一大进步与飞跃。也为提高抛光效率，提高工件表面质量提高了技术支持。
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